В составе Комплекса оборудования для фотолитографии
Установка разработана для работы с отдельными пластинами и обеспечивает проведение следующих процессов: очистка, проявление, травление, удаление резиста или «взрывной» литографии.
Производитель: SSE, Германия
Год выпуска: 2007
Комната: 213
| Основные параметры: | |
| Очистка в растворителях | |
| Очистка в перекисно-аммиачном растворе с возможностью нагрева | до 80оС |
| Очистка в смеси H2O2 и H2SO4 | |
| Полоскание вращающейся пластины деионизованной водой с возможностью нагрева | до 80оС |
| Сушка центрифугированием с обдувом газообразным азотом | |
| Максимальная скорость вращения | 4000 об/мин |
Оборудование размещено в чистом помещении класс ГОСТ ИСО 5