OPTIwet ST30

В составе Комплекса для фотолитографии

Установка разработана для работы с отдельными пластинами и обеспечивает проведение следующих процессов: очистка, проявление, травление, удаление резиста или «взрывной» литографии.

Производитель: SSE, Германия
Год выпуска: 2007
Комната: 213
 
Основные параметры:  
Очистка в растворителях  
Очистка в перекисно-аммиачном растворе с возможностью нагрева до 80оС
Очистка в смеси H2O2 и H2SO4  
Полоскание вращающейся пластины деионизованной водой с возможностью нагрева до 80оС
Сушка центрифугированием с обдувом газообразным азотом  
Максимальная скорость вращения 4000 об/мин

Оборудование размещено в чистом помещении класс ГОСТ ИСО 5

 

Организация*: Контактное лицо*: Email*: Телефон*: Заявка на измерение*: Объект исследования*: Ваше сообщение: