Электромеханическая испытательная машина для исследования механических свойств материалов
Испытательная машина позволяет в широком диапазоне нагрузок (50Н до 50 кН) проводить испытания на растяжение, излом и сжатие различных материалов, построение в автоматическом режиме деформационных кривых в стандартных координатах и определение механических характеристик материалов
Многофункциональная система для измерения и анализа свойств сегнето, пиро, диэлектриков
Прибор позволяет измерять динамические и статические петли гистерезиса поляризации, деформации,диэлектрической проницаемости и пьезоэлектрического коэффициента, токи утечки, ток переключения поляризации, исследовать эффекты усталости и старения
Система конфокальной микроскопии комбинационного рассеяния
Неразрушающий химический анализ методом конфокальной микроскопии комбинационного рассеяния и получение изображений рельефа поверхности с высоким разрешением
Сканирующий электронный и ионный микроскоп для исследования морфологии, химических и структурных свойств материалов. Пространственное разрешение до 1 нм.
Многопрофильный прибор, предназначенный для решения задач любой сложности: от простейших рутинных анализов до неспецифических многоуровневых исследований
Приставка фотоэлектрическая DTR-8/D-IR с интегрирующей сферой для измерения коэффициента пропускания и коэффициента диффузного отражения с возможностью исключения нормальной компоненты.
Приставка фотоэлектрическая М8-82 для измерения абсолютного коэффициента зеркального отражения под переменным углом.
Исследование оптических характеристик структур с микрорельефом, коллоидных растворов микро и наночастиц любой концентрации, порошков, керамик.
Сканирующий электронный микроскоп для биологических исследований в режимах высокого и переменного вакуума и в парах воды. Предназначен для широкого спектра исследований биологических и медицинских объектов в их естественном состоянии (в естественной среде), включая возможность регулировки давления водяных паров до 3000 Па.
Атомно-эмиссионный спектрометр с индуктивно-связанной плазмой
Определение качественного и количественного элементного состава материалов.
Элементный состав проб, включая водные и неводные растворы, с одновременным определением до 40 элементов в широком интервале концентраций
Предназначен для неразрушающего анализа элементного состава, эмпирической формулы, химического и электронного состояния атомов, присутствующих в материале.
Тестирование полупроводниковых, оптоэлектронных, микро- и нано- электромеханических систем с прецизионным позиционированием зондов и контролем процесса в оптический микроскоп.
ИНТЕГРА Аура разработана для осуществления с помощью методов высокоточных АСМ, ЭСМ и МСМ измерений, а также измерений адгезионных сил в условиях контролируемой атмосферы или низкого вакуума. Вакуум, обеспечивающий десятикратное увеличение добротности колебаний кантилевера, достигается уже через 1 минуту после начала работы.
Установка разработана для работы с отдельными пластинами и обеспечивает проведение следующих процессов: очистка, проявление, травление, удаление резиста или «взрывной» литографии.
Компактная система с открытой загрузкой для проведения процессов плазменного травления и осаждения в опытно-конструкторских разработках и мелкосерийном производстве.
Совмещенная установка для нанесения резиста со скоростью вращения центрифуги до 10000 об/мин, сушка и температурная обработка резиста до 350оС с контролем скоростей нагрева и охлаждения. Работа с пластинами диаметрами до 200 мм
Совмещение фотошаблона и пластины, а также экспонирование фоторезиста для контактной литографии. Система экспонирования позволяет работать на длинах волны 250, 300 и 400 нм без замены лампового блока.
Исследования методами оптической микроскопии и конфокальной микроскопии комбинационного рассеяния в широком температурном диапазоне
с контролируемой атмосферой и влажностью.
Измерение твердости и модуля упругости методом наноиндентирования; измерение геометрических параметров топографии поверхности с нанометровым разрешением
![Кривая намагничивания и петля гистерезиса монокристалла Nb измеренные в направлении [100] при температуре 2К](https://nanocenter.urfu.ru/sites/default/files/styles/sample_image/public/%D0%9A%D1%80%D0%B8%D0%B2%D0%B0%D1%8F%20%D0%BD%D0%B0%D0%BC%D0%B0%D0%B3%D0%BD%D0%B8%D1%87%D0%B8%D0%B2%D0%B0%D0%BD%D0%B8%D1%8F%20%D0%B8%20%D0%BF%D0%B5%D1%82%D0%BB%D1%8F%20%D0%B3%D0%B8%D1%81%D1%82%D0%B5%D1%80%D0%B5%D0%B7%D0%B8%D1%81%D0%B0%20%D0%BC%D0%BE%D0%BD%D0%BE%D0%BA%D1%80%D0%B8%D1%81%D1%82%D0%B0%D0%BB%D0%BB%D0%B0%20Nb%20%D0%B8%D0%B7%D0%BC%D0%B5%D1%80%D0%B5%D0%BD%D0%BD%D1%8B%D0%B5%20%D0%B2%20%20%D0%BD%D0%B0%D0%BF%D1%80%D0%B0%D0%B2%D0%BB%D0%B5%D0%BD%D0%B8%D0%B8%20%5B100%5D%20%D0%BF%D1%80%D0%B8%20%D1%82%D0%B5%D0%BC%D0%BF%D0%B5%D1%80%D0%B0%D1%82%D1%83%D1%80%D0%B5%202%D0%9A.jpg?itok=3xvsTG0O)
