- Оптическая микроскопия
- Визуализация кинетики и статики объектов
- в проходящем свете
- в отраженном свете
- в поляризованном свете
- в режиме светлого поля
- в режиме темного поля
- в режиме фазового контраста
- Обработка изображений
- устранение дефектов
- определение геометрических и статистических параметров
- Стандартное исследование включает в себя
- Визуализация поверхностных и объемных структур исследуемых материалов в различных областях образца
- Первичная обработка изображений
- Дополнительные возможности
- Разработка оригинальной методики анализа изображений
- Визуализация микрообъектов в широком температурном диапазоне
- Визуализация микрообъектов с контролем влажности
- Оборудование
- Микроскоп исследовательский универсальный Olympus BX61
- Программный комплекс для регистрации и обработки изображений SIAMS Photolab
- Визуализация кинетики и статики объектов
- Сканирующая лазерная конфокальная микроскопия и спектроскопия комбинационного рассеяния
- Трехмерное пространственное распределение оптических, фазовых и структурных неоднородностей
- Аттестация углеродных наноматериалов
- Измерение спектров комбинационного рассеяния с высоким спектральным разрешением
- Совмещение пространственного распределения оптических свойств, фазовой структуры и рельефа поверхности объектов
- Проведение измерений в широком температурном диапазоне
- Оборудование
- Механическая и оптическая профилометрия
- Измерение рельефа поверхности с субнанометровым вертикальным разрешением
- Построение трехмерных изображений рельефа поверхности
- Измерение шероховатости поверхности
- Измерение толщины покрытий
- Оборудование
- Сканирующая зондовая микроскопия
- Измерение и построение трехмерных изображений рельефа поверхности
- Измерение шероховатости поверхности
- Измерение толщины покрытий
- Визуализация и определение линейных размеров наночастиц, нанотрубок, зерен нанокристаллических материалов и других наноматериалов
- Измерение пространственной неоднородности механических, оптических, магнитных, электрических и других свойств
- Дополнительные возможности: измерения во внешнем магнитном поле:
горизонтальное поле до +/- 0,2Т
вертикальное поле +/- 0,02Т
- Дополнительные возможности: измерения во внешнем магнитном поле:
- Визуализация магнитных и сегнетоэлектрических доменных структур
- Измерение твердости и модуля упругости в режиме наноиндентирования
- Исследование морфологии биологических объектов
- Токовая и силовая нанолитография
- Стандартное исследование рельефа поверхности
- Измерения в двух различных областях образца
- Три скана с различным увеличением в каждой исследуемой области
- Первичная обработка изображений
- Стандартное исследования твердости и модуля упругости
- Измерение твердости материала в двух различных областях образца
- Скрабирование поверхности с четырьмя различными нагрузками
- Сканирование получившихся царапин
- Обработка изображения, извлечение информации о твердости материала
- Оборудование
- Сканирующая электронная микроскопия
- Измерение морфологии рельефа поверхности
- Определение элементного состава образцов методом рентгеноспектрального микроанализа
- Исследование кристаллической структуры/фазового состава поверхности методом дифракции отраженных электронов
- Измерение биологических тканей
- Измерение размеров микро- и наночастиц
- Электронно-лучевая литография
- Оборудование
- Анализ дисперсий наночастиц в растворах
- Комплексный анализ дисперсии нано- и субмикронных частиц в растворах
- Построение распределений частиц по размерам
- Измерение дзета-потенциала раствора
- Оборудование
- Адсорбционная порометрия
- Комплексный анализ дисперсности наноматериалов в сухом состоянии
- Измерение суммарного объема и поверхности микро- и мезопор
- Определение удельной поверхности нанопорошков
- Построение распределений пор по размерам
- Оборудование
- Анализатор удельной поверхности TriStar 3000
- Анализатор удельной поверхности Sorbi N.4.1
- Оптическая спектроскопия
- Измерение и анализ спектров отражения и пропускания в видимой, ближней и дальней ИК и УФ областях спектра
- Количественный химический анализ по спектрам флюоресценции и поглощения
- Идентификация полос поглощения в ИК спектре, относящихся к определенным функциональным группам анализируемых органических и полимерных материалов
- Регистрация спектров отражения гетерогенных систем, порошков и твердых веществ с неровной поверхностью
- Оборудование
- Спектрофотометр Cary 5000
- ИК-Фурье спектрометр Nicolet 6700
- Спектрофлюориметр Флюорат-02-Панорама
- Атомно-эмиссионная и атомно-абсорбционная спектрометрия
- Определение качественного и количественного элементного состава материалов
- Элементный состав проб, включая водные и неводные растворы, с одновременным определением до 40 элементов в широком интервале концентраций
- Оборудование
- Газовая и жидкостная хроматография, масс-спектрометрия и термогравиметрия
- Анализ сложных смесей газов и жидкостей с идентификацией и количественным определением компонентов
- Дифференциальная сканирующая калориметрия
- Дифференциальный термический анализ
- Термогравиметрия, возможность измерений синхронно с масс-спектрометрическим анализом в широком интервале температур
- Оборудование
- Хромато-масс-спектрометр высокого разрешения с двойной фокусировкой DFS
- Хромато-масс-спектрометр гибридный квадрупольный UPLC Waters Xevo
- Газоаналитическая система на основе квадрупольного масс-спектрометра STA 409 Luxx/QMS 403 C
- Термоанализатор STA 409 PC Luxx
- Термогравиметрический анализатор PYRIS 1 TGA
- Газовый хроматограф/квадрупольный масс-спектрометр GC/MS 600 D
- Газовый хроматограф с цифровым контролем носителя газа Thermo Focus GC
- Жидкостный хроматограф LC-20
- Механические испытания, термомеханический анализ, дилатометрия
- Испытания на разрыв и сжатие для определения:
- предела прочности
- предела текучести
- предела пропорциональности
- коэффициента упрочнения
- Измерения линейного расширения в зависимости от температуры при контролируемом усилии
- Определение температур стеклования, текучести и плавления
- Измерения линейного термического расширения порошков, паст и керамических волокон
- Оборудование
- Испытания на разрыв и сжатие для определения:
- Реологические исследования
- Одновременное исследование реологических свойств (вязкости, напряжения и скорости сдвига) и структуры деформируемых систем
- Определение реологических параметров в широком интервале температур
- Оборудование
- Вискозиметр ротационный Rheotest RN 4.1
- Оптический реометр Haake Mars
- Импедансная спектроскопия
- Измерение проводимости материалов, электролит-электродных структур и полупроводниковых гетероструктур в широком диапазоне частот, величин проводимости, температур и типов атмосфер
- Измерение сегнето-, пиро- и диэлектрических характеристик
- Измерение магнитных, электрических и других параметров материалов:
- индукция насыщения
- коэрцитивная сила
- магнитная проницаемость
- гистерезисные потери
- магнитосопротивление
- эффект Холла
- температура Кюри
- электропроводность
- диэлектрические потери
- теплоемкость
- Оборудование
- Рентгеновская дифрактометрия
- Рентгеноструктурный и рентгенофазовый анализ:
- Качественное и количественное определение фазового состава
- Кристаллическая структура и размеры кристаллитов в широком интервале температур
- Измерение внутренних напряжений и искажений кристаллической решетки
- Оборудование
- Рентгеноструктурный и рентгенофазовый анализ:
- Резонансная спектроскопия
- Измерение спектров электронного парамагнитного резонанса
- Измерение спектров двойного электронно-ядерного резонанса
- Измерение спектров ферромагнитного резонанса
- Оборудование
- Оптоэлектроника и нанофотоника
- Измерение основных характеристик (мощности, энергии и профиля пучка) источников лазерного излучения
- Тестирование элементов оптоэлектроники и нанофотоники с использованием лазерного излучения средней и высокой мощности в видимом, ИК и УФ диапазоне
- Оборудование
- Комплекс для измерения параметров лазерного излучения
- Механическая обработка
- Прецизионная раскройка образцов
- Высококачественная шлифовка и полировка поверхностей различных материалов
- Оборудование
- Станок для прецизионной шлифовки и полировки PM5
- Автоматическая дисковая пила DAD 3220
- Фотолитография
- Получение сверхчистой деионизованной воды аналитического качества
- Изготовление поверхностных микроструктур методом контактной литографии
- Формирование рисунка в фоторезисте на поверхности пластин
- Вакуумное нанесение тонких пленок металлов и диэлектриков
- Реактивно-ионное травление
- Разработка и изготовление фотошаблонов
- Оборудование
- Чистое производственное помещение класса ГОСТ ИСО 5
- Комбинированная установка вакуумного напыления Auto 500 Edwards
- Установка жидкостной очистки пластин OPTIwet ST30
- Установка реактивно-ионного травления Plasmalab 80 plus RIE
- Лабораторная центрифуга Sawatec SM180-HP250HDMS
- Установка совмещения и экспонирования SUSS MJB4
- Обработка материалов
- Обработка материалов с использованием лазерного излучения
- Обработка материалов с использованием быстрого термического отжига
- Измерение краевого угла смачивания и угла скатывания