В составе Комплекса оборудования для фотолитографии
Совмещенная установка для нанесения резиста со скоростью вращения центрифуги до 10000 об/мин, сушка и температурная обработка резиста до 350оС с контролем скоростей нагрева и охлаждения. Работа с пластинами диаметрами до 200 мм
Производитель: Sawatec Solutions, Лихтенштейн
Год выпуска: 2007
Комната: 213
Возможности:
- Нанесение однородных пленок резиста различной толщины методом центрифугирования
- Сушка и высокотемпературная обработка нанесенной пленки резиста после проявки
- Термическая обработка пластин и нанесение праймера для повышения адгезии резиста
- Раздельное выполнение операций по нанесению резиста и термической обработке
- Подложки из кремния, GaAs, GaN, LiNbO3 и другие
| Максимальный размер: | |
| кусочки | 100 мм |
| пластины | 150 мм |
Оборудование размещено в чистом помещении класс ГОСТ ИСО 5