В составе Комплекса оборудования для термообработки материалов.
Проведение процессов быстрой температурной обработки пластин в инертной среде
Производитель: АО «НТО» (SemiTEq), Россия
Год выпуска: 2022
Комната: 229
|
Основные параметры: |
|
|
Скорость откачки вакуумного насоса: |
3,5 м3/час |
|
Максимальный диаметр обрабатываемой пластины |
100 мм |
|
Максимальная скорость нагрева с графитовым столиком: |
40 °С/с |
|
Максимальная температура нагрева: |
1000°С |
|
Однородность нагрева для пластины диаметром 100 мм: |
±2% |
|
Диапазон длительности процесса отжига полупроводниковой пластины |
1-600 с |
|
|
|
|
Оптический пирометр |
да |