SUSS MJB4

Примеры: 
Периодическая структура
Тестовые структуры
Фотошаблон периодической структуры

В составе Комплекса для фотолитографии

Совмещение фотошаблона и пластины, а также экспонирование фоторезиста для контактной литографии. Система экспонирования позволяет работать на длинах волны 250, 300 и 400 нм без замены лампового блока.

Производитель: Suss MicroTec, Германия
Год выпуска: 2007
Комната: 213
 
Режимы контактной литографии  
     - мягкий контакт  
     - жесткий контакт  
     - низковакуумный контакт  
     - вакуумный контакт  
     - контакт с зазором в диапазоне     от 0 до 50 мкм
Предельное разрешение при вакуумном контакте 0.6 мкм
Подложки кремний, GaAs, GaN,
LiNbO3 и другие
Размер  
     - кусочки от 10х10 мм2
     - пластины до 100 мм в диаметре

Оборудование размещено в чистом помещении класс ГОСТ ИСО 5

Организация*: Контактное лицо*: Email*: Телефон*: Заявка на измерение*: Объект исследования*: Ваше сообщение: